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    薄膜生長速率測試儀

    描述:薄膜生長速率測試儀,采用無損的激光技術實時原位檢測薄膜沉積速率、薄膜厚度以及光學常量(n&amp;k),可廣泛的應用于金屬有機化學氣象沉積MOCVD、分子束外延MBE、濺射系統Sputtering和蒸發系統等薄膜沉積過程的實時原位監控。

    更新時間:2023-09-07
    產品型號:
    廠商性質:代理商
    詳情介紹
    品牌其他品牌產地類別進口
    應用領域環保,化工,生物產業,能源,電子

    薄膜生長速率測試儀,采用無損的激光技術實時原位檢測薄膜沉積速率、薄膜厚度以及光學常量(n&k),可廣泛的應用于金屬有機化學氣象沉積MOCVD、分子束外延MBE、濺射系統Sputtering和蒸發系統等薄膜沉積過程的實時原位監控。

    薄膜生長速率測試儀

    主要特點:

    *實時薄膜沉積速率、薄膜厚度和光學常數(n&k)分析,同時標準偏差統計分析;

    *自動程序化校準;

    *精密的實時反饋系統;

    *程序控制,可實時多層薄膜沉積監控和控制;

    *多Wafer監控功能;

    *Wafer基底旋轉監控和控制功能;

    *所有參量原位實時檢測;

    *操作裝配簡單便捷;

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